[发明专利]曝光装置以及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，具备：

微透镜阵列，以阵列状排列有将来自光源的光会聚的微透镜；

空间光调制部，排列有对由所述微透镜阵列会聚的光进行调制的像素部；

第一成像光学系统，将由所述微透镜阵列会聚的光成像到所述空间光调制部；以及

第二成像光学系统，将由所述空间光调制部调制后的光成像到感光材料上，

所述空间光调制部是数字微镜器件；

所述像素部是与所述微透镜一对一地对应的微镜；

所述第一成像光学系统是将由所述微透镜阵列的各微透镜会聚后的光点状的光缩小、并在分别对应的所述微镜上以小于该微镜的大小的光点尺寸成像的缩小成像光学系统，

通过所述第一成像光学系统，使从一个所述微透镜射出的光会聚在特定的一个所述微镜上，

所述曝光装置还具有仅将所述微透镜阵列的聚光性能不充分的范围进行遮光的遮光部件。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第二成像光学系统是放大成像光学系统。

3.一种曝光方法，其特征在于，

由微透镜以阵列状排列所成的微透镜阵列将来自光源的光会聚，将由该微透镜阵列的各微透镜会聚后的光点状的光缩小，在排列有与所述微透镜一对一地对应的微镜的作为数字微镜器件的空间光调制部中，在其分别对应的所述微镜上，以小于该微镜的大小的光点尺寸成像，以使得从一个所述微透镜射出的光会聚在特定的一个所述微镜上，将由所述空间光调制部调制后的光成像到感光材料上，

仅将所述微透镜阵列的聚光性能不充分的范围进行遮光。