[发明专利]用于处理表面的装置有效
申请号: | 201680007009.2 | 申请日: | 2016-01-11 |
公开(公告)号: | CN107667285B | 公开(公告)日: | 2022-12-20 |
发明(设计)人: | H.温多费尔 | 申请(专利权)人: | 德国福维克控股公司 |
主分类号: | G01N21/25 | 分类号: | G01N21/25;G01N21/55;G01N21/47;G01N21/86;A47L9/30 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 葛青 |
地址: | 德国伍*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于处理表面(2)的装置(1),特别是清洁机器人。所述装置(1)具有用于确定表面类型(2)的光学测量装置(3)。本发明的目的是提供一种表面处理装置,所属表面处理装置允许以很少的技术复杂度可靠地检测表面的类型。这通过以下设置来实现:光学测量装置(3)具有光源(4)和至少两个光传感器(5、6),所述光源(4)和第一光传感器(5)布置为使得由所述光源(4)发射的光以入射角(α)撞击表面(2)的反射点(7)并且然后以相应的反射角(β)反射到第一光传感器(5)。所述光源(4)、所述反射点(7)和所述第一光传感器(5)限定入射平面(8),与所述反射点(7)相交并且具有第二光传感器(6)的次平面(9)限定为垂直横跨表面(2),所述次平面(9)相对于入射平面(8)形成80°和100°之间的角(δ)。穿过反射点(7)和第二光传感器(6)的直线形成相对于表面(2)的角(γ),所述角与入射角(α)或反射角(β)基本一样大。 | ||
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【主权项】:
一种用于处理表面(2)的装置(1),特别是清洁机器人,其中所述装置(1)具有用于确定表面(2)类型的光学测量装置(3),其特征在于,所述光学测量装置(3)具有光源(4)和至少两个光传感器(5、6),其中所述光源(4)和第一光传感器(5)布置为使得由所述光源(4)发射的光以入射角(α)撞击所述表面(2)的反射点(7)并且然后以相应的反射角(β)反射到所述第一光传感器(5),其中所述光源(4)、所述反射点(7)和所述第一光传感器(5)形成入射平面(8),并且其中与所述反射点(7)相交并且具有第二光传感器(6)的次平面(9)垂直于所述表面(2)形成,并且所述次平面(9)呈现相对所述于入射平面(8)的80°和100°之间的角(δ),其中穿过所述反射点(7)和所述第二光传感器(6)的直线具有相对于所述表面(2)的角(γ),所述角(γ)与所述入射角(α)或反射角(β)基本一样大。
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