[发明专利]用于处理表面的装置有效

专利信息
申请号: 201680007009.2 申请日: 2016-01-11
公开(公告)号: CN107667285B 公开(公告)日: 2022-12-20
发明(设计)人: H.温多费尔 申请(专利权)人: 德国福维克控股公司
主分类号: G01N21/25 分类号: G01N21/25;G01N21/55;G01N21/47;G01N21/86;A47L9/30
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 葛青
地址: 德国伍*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 处理 表面 装置
【权利要求书】:

1.一种利用装置(1)用于处理表面(2)的方法,所述装置(1)具体是清洁机器人,其中,所述装置(1)利用光学测量装置(3)确定所述表面(2)的类型并且根据所述类型调整处理类型,所述光学测量装置(3)具有光源(4)和至少两个光传感器(5、6),其中,所述光源(4)和第一光传感器(5)布置为使得由所述光源(4)发射的光撞击所述表面(2)的反射点(7)并且然后反射到所述第一光传感器(5),其中所述光源(4)、所述反射点(7)和所述第一光传感器(5)形成入射平面(8),其特征在于,入射平面(8)内的光以入射角从光源(4)辐射到所述表面(2)的反射点(7)上,并且从反射点(7)以相应的反射角反射到第一光传感器(5),其中第二光传感器(6)布置在次平面(9)中使得穿过所述反射点(7)和所述第二光传感器(6)的直线到所述表面(2)具有与所述入射角或所述反射角基本一样大小的角,所述次平面(9)保持垂直于所述表面(2)、与所述反射点(7)相交且具有与所述入射平面成80°和100°之间的角,其中,所述光源(4)、第一光传感器(5)和第二光传感器(6)布置在平行于所述表面(2)的公共平面中,

其中,执行以下测量步骤以确定表面的类型(2):

- 在所述光源(4)关闭的情况下,利用所述第一光传感器(5)和所述第二光传感器(6)测量光强度,

- 在所述光源(4)打开的情况下,利用所述第一光传感器(5)测量光强度,

- 在所述光源(4)打开的情况下,利用所述第二光传感器(6)测量光强度。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,将由所述光传感器(5、6)测量的光强度与已知表面(2)的相应参考强度进行比较。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述光源(4)发射多色光。

4.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,从所述表面(2)获得的到所述光传感器(5、6)的光被光谱滤波。

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