[发明专利]保持光刻系统中的部件的组合件和光刻系统有效
| 申请号： | 201680006674.X | 申请日： | 2016-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN107209462B | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | J.韦赛林 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种保持光刻系统(100)中的部件(M6)的组合件(200)，组合件包括对部件(M6)施加补偿力的重力补偿装置(202)和调节装置(400)。重力补偿装置(202)至少部分地补偿作用在部件(M6)上的重力。调节补偿力的所述至少一个调节装置(400)包括具有可调节的永久磁化的第一磁体(500)和调节第一磁体(500)的永久磁化的装置(510)。 | ||
| 搜索关键词： | 保持 光刻 系统 中的 部件 组合 | ||
【主权项】：
一种安装光刻设备(100)中的部件(M6)的布置(200)，包括重力补偿装置(202)，在所述部件(M6)上施加补偿力，所述补偿力至少部分地补偿作用在所述部件(M6)上的重力，以及至少一个调节装置(400)，调节所述补偿力，其中所述至少一个调节装置(400)包括具有可设定的永久磁化的第一磁体(500)和设定所述第一磁体(500)的永久磁化的装置(510)。
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