[发明专利]成膜装置以及成膜工件制造方法有效
| 申请号： | 201680000765.2 | 申请日： | 2016-02-29 |
| 公开（公告）号： | CN107429385B | 公开（公告）日： | 2019-11-22 |
| 发明（设计）人： | 福冈洋太郎;八木聡介 | 申请（专利权）人： | 芝浦机械电子装置株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50 |
| 代理公司： | 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 马爽;臧建明<国际申请>=PCT/JP2 |
| 地址： | 日本神奈川县横*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供能够利用简单的构成，以均一的厚度在立体物等包括多个面的工件上成膜的成膜装置以及成膜工件制造方法。所述成膜装置包括：包含平面的成膜材料的靶材；电源部，将电力施加至靶材；自转部，使作为成膜对象的工件以自转轴为中心而自转；以及公转部，使自转部以与自转轴不同的公转轴为中心而公转，借此，使工件反复地靠近与远离靶材，自转过程中及公转过程中的自转轴固定于使与该自转轴正交的自转轨道面相对于与公转轴正交的公转轨道面具有第1倾斜角度的角度，靶材固定于使平面相对于公转轨道面具有第2倾斜角度的角度。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 以及 工件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种成膜装置，其特征在于包括：/n包含平面的成膜材料的靶材；/n电源部，将电力施加至所述靶材；/n自转部，使作为成膜对象的具有成膜对象面的工件，以与所述成膜对象面交叉的自转轴为中心而自转；以及/n公转部，使所述自转部以与所述自转轴不同的公转轴为中心而公转，借此使所述工件反复地接近与远离所述靶材，/n自转过程中及公转过程中的所述自转轴固定于使与所述自转轴正交的自转轨道面相对于与所述公转轴正交的公转轨道面呈第1倾斜角度的角度，/n所述靶材固定于使所述平面相对于所述公转轨道面呈第2倾斜角度的角度，/n所述第1倾斜角度与所述第2倾斜角度大于0°且不足90°，/n所述自转轨道面包含所述成膜对象面，且以所述成膜对象面朝向所述公转轴而向内且朝向所述公转轴而向上的方式倾斜。/n
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