[发明专利]利用大气压等离子体的一次性烤盘的表面处理方法和其表面处理装置以及通过其表面处理方法而制造的一次性烤盘在审
| 申请号： | 201680000546.4 | 申请日： | 2016-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN106105402A | 公开（公告）日： | 2016-11-09 |
| 发明（设计）人： | 朴畅济;文成兰 | 申请（专利权）人： | 朴畅济;文成兰 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24;C23F4/00;B05D7/14;B05C1/08;B05C9/14;A47J37/06 |
| 代理公司： | 北京冠和权律师事务所 11399 | 代理人： | 朱健;陈国军 |
| 地址： | 韩国庆上*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： |
本发明中，通过大气压等离子体对由铝薄板或铝箔等构成的基底2表面进行表面处理，从而形成 |
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| 搜索关键词： | 利用 大气压 等离子体 一次性 表面 处理 方法 装置 以及 通过 制造 | ||
【主权项】：
一种利用大气压等离子体的一次性烤盘的表面处理方法，其特征在于，包括如下步骤：a)准备30μm～100μm厚度的铝薄板基底；b)表面处理步骤，在铝薄板基底的表面形成凹凸；c)将黄土陶瓷液以10μm～20μm的厚度涂覆在形成有极细微凹凸的基底的表面，所述黄土陶瓷液由1μm左右的黄土粉末和陶瓷粘合剂以50:50的重量比例混合之后与一般用水以50:50的重量比例稀释而形成；d)将涂覆有黄土陶瓷液的基底用150℃左右的热风干燥10～30分钟，所述表面处理步骤，用大气压等离子体对铝薄板基底的表面进行表面处理，从而形成无数![]()
左右的极细微凹凸。
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