[发明专利]利用大气压等离子体的一次性烤盘的表面处理方法和其表面处理装置以及通过其表面处理方法而制造的一次性烤盘在审

专利信息
申请号: 201680000546.4 申请日: 2016-02-02
公开(公告)号: CN106105402A 公开(公告)日: 2016-11-09
发明(设计)人: 朴畅济;文成兰 申请(专利权)人: 朴畅济;文成兰
主分类号: H05H1/24 分类号: H05H1/24;C23F4/00;B05D7/14;B05C1/08;B05C9/14;A47J37/06
代理公司: 北京冠和权律师事务所 11399 代理人: 朱健;陈国军
地址: 韩国庆上*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 利用 大气压 等离子体 一次性 表面 处理 方法 装置 以及 通过 制造
【说明书】:
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