[实用新型]一种IMD可靠性测试结构

摘要

本实用新型提供一种IMD可靠性测试结构，包括衬底和位于衬底中的N阱区和P阱区；条状栅极结构，包括栅氧化层及多晶硅层，栅氧化层位于有源区表面，多晶硅层覆盖于栅氧化层表面；层间介质层，覆盖于多晶硅层表面；第一金属线层，形成于层间介质层内；金属层间介质层，覆盖于第一金属线层表面；第二金属线层，形成于金属层间介质层内；第一金属连线和第二金属连线分别连接第一金属线层和第二金属线层；第三金属连线位于第一金属连线与第二金属连线之间，且与二者交错设置；第一金属连线与第二金属连线均为梳齿状结构，且投影相重叠，第三金属连线为蛇形结构。本实用新型可防止测试焊盘底端泄漏问题，达到有效评估金属层间介质层可靠性的目的。

主权项

一种IMD可靠性测试结构，其特征在于，包括：衬底；N阱区和P阱区，所述N阱区和所述P阱区均位于所述衬底中，且所述N阱区位于所述P阱区的两侧并由所述衬底隔离；多个有源区，位于所述N阱区及所述P阱区内；条状栅极结构，所述栅极结构包括栅氧化层及多晶硅层，所述栅氧化层位于所述有源区表面，所述多晶硅层覆盖于所述栅氧化层表面；层间介质层，覆盖于所述多晶硅层表面；第一金属线层，形成于所述层间介质层内；金属层间介质层，覆盖于所述第一金属线层表面；第二金属线层，形成于所述金属层间介质层内；第一金属连线，连接所述第一金属线层；第二金属连线，连接所述第二金属线层；第三金属连线，位于所述第一金属连线与所述第二金属连线之间，且与所述第一金属连线、所述第二金属连线交错设置；其中，所述第一金属连线与所述第二金属连线均为梳齿状结构，且投影相重叠；所述第三金属连线为蛇形结构。