[实用新型]研磨盘、研磨垫调整器及研磨装置有效
| 申请号： | 201621492421.1 | 申请日： | 2016-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN206357051U | 公开（公告）日： | 2017-07-28 |
| 发明（设计）人： | 唐强 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/11 | 分类号： | B24B37/11;B24B37/20;B24B37/34;B24B41/02;B24B57/02 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种研磨盘、研磨垫调整器及研磨装置，所述研磨盘包括所述研磨盘包括内研磨阻挡环；位于所述内研磨阻挡环内的研磨液输出口；位于所述内研磨阻挡环外围的研磨件；以及位于所述研磨件外围的外研磨阻挡环；其中，所述内研磨阻挡环与研磨件之间设有第一路径，所述外研磨阻挡环与研磨件之间设有第二路径，所述研磨件还包括多条连接于第一路径和第二路径之间的研磨液通道。通过本实用新型提供的研磨盘、研磨垫调整器及研磨装置，解决了现有技术中研磨速率不稳定、均匀性差等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 调整器 装置 | ||
【主权项】：
一种研磨盘，其特征在于，所述研磨盘包括：内研磨阻挡环；位于所述内研磨阻挡环内的研磨液输出口；位于所述内研磨阻挡环外围的研磨件；以及位于所述研磨件外围的外研磨阻挡环；其中，所述内研磨阻挡环与研磨件之间设有第一路径，所述外研磨阻挡环与研磨件之间设有第二路径，所述研磨件还包括多条连接于第一路径和第二路径之间的研磨液通道。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司，未经中芯国际集成电路制造（北京）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201621492421.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：收纳柜（儿童）
- 下一篇：一种偏光膜研磨机上下料装置
