[实用新型]研磨盘、研磨垫调整器及研磨装置有效
申请号: | 201621492421.1 | 申请日: | 2016-12-30 |
公开(公告)号: | CN206357051U | 公开(公告)日: | 2017-07-28 |
发明(设计)人: | 唐强 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B37/11 | 分类号: | B24B37/11;B24B37/20;B24B37/34;B24B41/02;B24B57/02 |
代理公司: | 上海光华专利事务所31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 调整器 装置 | ||
1.一种研磨盘,其特征在于,所述研磨盘包括:
内研磨阻挡环;
位于所述内研磨阻挡环内的研磨液输出口;
位于所述内研磨阻挡环外围的研磨件;以及
位于所述研磨件外围的外研磨阻挡环;
其中,所述内研磨阻挡环与研磨件之间设有第一路径,所述外研磨阻挡环与研磨件之间设有第二路径,所述研磨件还包括多条连接于第一路径和第二路径之间的研磨液通道。
2.根据权利要求1所述的研磨盘,其特征在于,所述研磨液通道的数量为8~10条。
3.根据权利要求1所述的研磨盘,其特征在于,所述第一路径、及第二路径均为环形结构。
4.根据权利要求1所述的研磨盘,其特征在于,所述研磨件包括基盘,以及设置于所述基盘下表面的磨件。
5.根据权利要求4所述的研磨盘,其特征在于,所述磨件为金刚石。
6.一种研磨垫调整器,其特征在于,所述研磨垫调制器包括:如权利要求1~5任一项所述的研磨盘,其中,所述内研磨阻挡环连接于控制所述内研磨阻挡环升降的第一控制装置,所述第一控制装置通过第一通气管路与第一压缩空气产生装置连接;所述外研磨阻挡环连接于控制所述外研磨阻挡环升降的第二控制装置,所述第二控制装置通过第二通气管路与第二压缩空气产生装置连接,所述研磨液输出口通过研磨液管路与研磨液输入口连接。
7.根据权利要求6所述的研磨垫调整器,其特征在于,所述第一控制装置及所述第二控制装置为具有密闭空间的中空伸缩轴,并且所述第二控制装置套设于所述第一控制装置的外侧。
8.根据权利要求6所述的研磨垫调整器,其特征在于,所述第一控制装置、及第二控制装置为不锈钢。
9.一种研磨装置,其特征在于,所述研磨装置包括:
研磨台;
位于所述研磨台上表面的研磨垫;
位于所述研磨垫上表面、如权利要求6~8任一项所述的研磨垫调整器;
位于所述研磨垫上表面的研磨头;以及
位于所述研磨头与研磨垫之间的待研磨晶圆。
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