[实用新型]一种完全覆盖底壁的液态锂膜流结构有效

专利信息
申请号: 201621450663.4 申请日: 2016-12-28
公开(公告)号: CN206672645U 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 张秀杰;潘传杰;许增裕 申请(专利权)人: 核工业西南物理研究院
主分类号: G21B1/13 分类号: G21B1/13
代理公司: 核工业专利中心11007 代理人: 高安娜
地址: 610041 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型属于流体流动控制技术领域,具体涉及一种完全覆盖底壁的液态锂膜流结构。本实用新型包括底壁,中间底壁,管道及侧槽道壁组成,本结构整体为一个凹槽,中间底壁和底壁之间的区域为管道,中间底壁上设置有若干圆形贯穿孔,以便液态金属锂由圆孔流入中间底壁上方。本实用新型提出的方法可以解决液体与固体底壁润湿性不好而带来的液态金属不能完全覆盖底壁的问题,该膜流系统的适应范围较广,能够较好的适应液态偏滤器的位形同时形成大面积的完全覆盖固体底壁的膜流流动。
搜索关键词: 一种 完全 覆盖 液态 锂膜流 结构
【主权项】:
一种完全覆盖底壁的液态锂膜流结构,包括底壁(4),中间底壁(2),管道(3)及侧槽道壁(5)组成,其特征在于:本结构整体为一个凹槽,中间底壁(2)和底壁(4)之间的区域为管道(3),中间底壁(2)上设置有若干圆形贯穿孔,以便液态金属锂由圆孔流入中间底壁(2)上方。
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