[实用新型]一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜装置有效
| 申请号： | 201621327257.9 | 申请日： | 2016-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN206486587U | 公开（公告）日： | 2017-09-12 |
| 发明（设计）人： | 苏陟 | 申请（专利权）人： | 广州方邦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 | 代理人： | 谭英强 |
| 地址： | 510663 广东省广州市高*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜装置，包括真空腔体、收放卷系统，真空腔体上设置有真空获得系统，真空腔体内的磁控溅射区左右两侧分别布置有靶极，收放卷系统包括第一卷轴、第二卷轴、导向辊、张力辊以及两根主动辊，每排靶极和其相对应的主动辊之间形成磁控溅射通道，两根主动辊位于磁控溅射区中且两根主动辊沿水平方向分布在两排靶极之间，第一卷轴中的基材通过导向辊、张力辊和相应的主动辊进去其中一个磁控溅射通道后从另一个磁控溅射通道出并经相应的主动辊、张力辊和导向辊收卷于第二卷轴。将靶极设计在真空腔体内，省去靶极车，合理的利用了真空腔体的有限空间，减小设备空间占有率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双面 真空 磁控溅射 卷绕 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜装置，包括真空腔体、真空获得系统、靶极、收放卷系统，其特征在于：所述真空腔体上设置有真空获得系统，真空腔体内的磁控溅射区左右两侧分别布置有一排磁控溅射的靶极，所述收放卷系统包括第一卷轴、第二卷轴、若干导向辊、若干张力辊以及两根主动辊，第一卷轴和第二卷轴分别位于磁控溅射区上下侧，每排所述靶极和其相对应的主动辊之间形成磁控溅射通道，两根所述主动辊位于磁控溅射区中且两根主动辊沿水平方向分布在两排靶极之间，第一卷轴中的基材通过导向辊、张力辊和相应的主动辊进去其中一个磁控溅射通道后从另一个磁控溅射通道出并经相应的主动辊、张力辊和导向辊收卷于第二卷轴。
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