[实用新型]光刻机硅片自动检测校正系统有效
| 申请号: | 201621287346.5 | 申请日: | 2016-11-28 |
| 公开(公告)号: | CN206209290U | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
| 发明(设计)人: | 丁桃宝;陈愿 | 申请(专利权)人: | 张家港晋宇达电子科技有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙)11531 | 代理人: | 李宏伟 |
| 地址: | 215600 江苏省苏州市张家港市经*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本实用新型公开了一种光刻机硅片自动检测校正系统,包括至少三个校圆检测传感器、粗检测传感器和精检测传感器,三个校圆检测传感器设置于同一校正圆的圆周上,粗检测传感器设置于校正平台上且处于粗检测工位,精检测传感器设置于校正平台上且处于精检测工位,精检测工位与硅片缺口的左右边缘位置对应匹配,校圆检测传感器、一个粗检测传感器和一个精检测传感器均与智能控制装置电联接,智能控制装置与校正执行机构电连接,该自动检测校正系统能准确的识别处于校正平台上的硅片的位置,同时也能准确的检测识别硅片上的圆弧形的缺口的位置,从而方便硅片的圆心和缺口位置调整,使硅片校正后处于设定的摆放位置和摆放状态,方便硅片进料。 | ||
| 搜索关键词: | 光刻 硅片 自动检测 校正 系统 | ||
【主权项】:
光刻机硅片自动检测校正系统,其特征在于:包括至少三个校圆检测传感器、一个粗检测传感器和一个精检测传感器,所述的至少三个校圆检测传感器设置于校正平台上且处于同一校正圆的圆周上,所述粗检测传感器设置于校正平台上且处于粗检测工位,所述精检测传感器设置于校正平台上且处于精检测工位,所述粗检测传感器处于硅片绕校正圆圆心旋转时硅片缺口旋转形成的缺口轨迹圆环上,所述精检测工位与硅片缺口的左右边缘位置对应匹配,所述校圆检测传感器、一个粗检测传感器和一个精检测传感器均与智能控制装置电联接,所述智能控制装置与校正执行机构电连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于张家港晋宇达电子科技有限公司,未经张家港晋宇达电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201621287346.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:供应商专用的外围设备类标识符
- 下一篇:一种光刻机的硅片自动校正装置





