[实用新型]一种测量及防治足下垂的装置有效

专利信息
申请号: 201621128390.1 申请日: 2016-10-17
公开(公告)号: CN206355049U 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: 刘红梅;王利;柏玲;张翠红;杨峰;王子颖;吕静文;孔德玲;杨惠云;周西;赵瑾;雷晓辉 申请(专利权)人: 西安交通大学医学院第二附属医院
主分类号: A61B5/107 分类号: A61B5/107;A61H1/02
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司61200 代理人: 陆万寿
地址: 710003 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型公开了一种测量及防治足下垂的装置,包括T型支架、脚踏板、支撑立柱和中心量角器;T型支架由第一横梁和第二横梁垂直连接组成;支撑立柱的底部卡在第二横梁上;支撑立柱的中部固定有中心量角器,中心量角器上设有角度刻度;支撑立柱的两侧对称设置有两个脚踏板。本实用新型将足下垂的测量、预防、治疗合为一体;中心量角器可对足下垂进行客观的测量评估;脚踏板可前后移动解决患者身高差异,脚踏板与患者脚全面接触,使足背与小腿成90°角,避免了小腿各肌肉群和跟腱的挛缩,可以有效杜绝和减少足下垂的发生;脚踏板角度可变,治疗时可逐步调整背屈角度,可减少可能造成的损伤。
搜索关键词: 一种 测量 防治 足下 装置
【主权项】:
一种测量及防治足下垂的装置,其特征在于,包括T型支架、脚踏板(3)、支撑立柱(2)和中心量角器(1);T型支架由第一横梁(4)和第二横梁(5)垂直连接组成;支撑立柱(2)的底部卡在第二横梁(5)上;支撑立柱(2)的中部固定有中心量角器(1),中心量角器(1)上设有角度刻度;支撑立柱(2)的两侧对称设置有两个脚踏板(3)。
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