[实用新型]一种测量及防治足下垂的装置有效
| 申请号： | 201621128390.1 | 申请日： | 2016-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN206355049U | 公开（公告）日： | 2017-07-28 |
| 发明（设计）人： | 刘红梅;王利;柏玲;张翠红;杨峰;王子颖;吕静文;孔德玲;杨惠云;周西;赵瑾;雷晓辉 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学医学院第二附属医院 |
| 主分类号： | A61B5/107 | 分类号： | A61B5/107;A61H1/02 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司61200 | 代理人： | 陆万寿 |
| 地址： | 710003 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 测量 防治 足下 装置 | ||
1.一种测量及防治足下垂的装置，其特征在于，包括T型支架、脚踏板(3)、支撑立柱(2)和中心量角器(1)；T型支架由第一横梁(4)和第二横梁(5)垂直连接组成；支撑立柱(2)的底部卡在第二横梁(5)上；支撑立柱(2)的中部固定有中心量角器(1)，中心量角器(1)上设有角度刻度；支撑立柱(2)的两侧对称设置有两个脚踏板(3)。
2.根据权利要求1所述的一种测量及防治足下垂的装置，其特征在于，两个脚踏板(3)上均设置有若干个脚固定带(6)。
3.根据权利要求1所述的一种测量及防治足下垂的装置，其特征在于，第二横梁(5)上表面沿其长度方向设有多个调节孔(50)；支撑立柱(2)的底部设有与调节孔(50)相配合的调节柱，支撑立柱(2)的调节柱卡入对应的调节孔(50)中，支撑立柱(2)竖直固定在第二横梁(5)上。
4.根据权利要求1所述的一种测量及防治足下垂的装置，其特征在于，两个脚踏板(3)靠近支撑立柱(2)的一侧均固定有一个橡胶摩擦片(30)，支撑立柱(2)与橡胶摩擦片(30)接触处设有橡胶层。
5.根据权利要求1所述的一种测量及防治足下垂的装置，其特征在于，螺栓(7)的螺杆穿过左侧脚踏板、支撑立柱(2)和右侧脚踏板，穿出右侧脚踏板的右侧壁；螺栓(7)穿出右侧脚踏板的右侧壁的螺杆上固定有螺母(8)。
6.根据权利要求1所述的一种测量及防治足下垂的装置，其特征在于，螺栓(7)的螺杆通过中心量角器(1)的中心；螺栓(7)的螺杆为两个脚踏板(3)的旋转中心。
7.根据权利要求1所述的一种测量及防治足下垂的装置，其特征在于，T型支架、脚踏板(3)和支撑立柱(2)的均由透明亚克力制成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安交通大学医学院第二附属医院，未经西安交通大学医学院第二附属医院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201621128390.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
