[实用新型]一种应用于MOCVD机台腔室的组件有效
| 申请号： | 201621125606.9 | 申请日： | 2016-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN206127421U | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 李政鸿;毛洪涛;张飞;郭晃亨;林兓兓;张家宏 | 申请（专利权）人： | 安徽三安光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/54 | 分类号： | C23C16/54 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 241000 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型提出了一种应用于MOCVD机台腔室的组件，包括多个遮挡板和若干个晶圆承载盘，所述遮挡板包括围绕于晶圆承载盘周围并与晶圆承载盘位于同一水平面的第一结构和位于晶圆承载盘上方的第二结构，其中，所述遮挡板第一结构上表面为经过粗化处理的粗糙结构，所述粗糙结构在连续变化范围内最高点与最低点的差值大于0.01微米，以防止生产过程中遮挡板上沉积物因附着不紧密而掉落至晶圆承载盘所容纳晶圆的表面。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 mocvd 机台 组件 | ||
【主权项】：
一种应用于MOCVD机台腔室的组件，包括多个遮挡板和若干个晶圆承载盘，所述遮挡板包括围绕于晶圆承载盘周围并与晶圆承载盘位于同一水平面的第一结构和位于晶圆承载盘上方的第二结构，其特征在于：所述遮挡板第一结构上表面为经过粗化处理的粗糙结构，所述粗糙结构在连续变化范围内最高点与最低点的差值大于0.01微米，防止生产过程中遮挡板上沉积物因附着不紧密而掉落至晶圆承载盘所容纳晶圆的表面。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
