[实用新型]可调式基质辅助激光解析离子源进出样装置有效
| 申请号： | 201620704821.8 | 申请日： | 2016-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN205810762U | 公开（公告）日： | 2016-12-14 |
| 发明（设计）人： | 吴鹏鹏;蔡克亚;张彤;宋家玉;李传华;肖永东;易玲;张瑞峰;刘伟伟;刘晓莉;王超;刘聪;吴学炜 | 申请（专利权）人： | 安图实验仪器（郑州）有限公司 |
| 主分类号： | H01J49/04 | 分类号： | H01J49/04 |
| 代理公司： | 郑州异开专利事务所(普通合伙)41114 | 代理人： | 韩华 |
| 地址： | 450016 河南省*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种可调式基质辅助激光解析离子源进出样装置，包括真空离子源腔体以及设置在其内腔中的运动平台，所述运动平台上方设置有用于安放靶板的靶槽，所述真空离子源腔体顶盖上开设有与所述靶槽形状相匹配的通孔，所述通孔上方设置有密封压盖，位于所述密封压盖下方的真空离子源腔体底板上设置有顶起机构，通孔两侧分别设置有与密封压盖和靶槽相匹配的上密封圈和下密封圈，所述顶起机构底座和真空离子源腔体底板之间均匀设置有多个压簧，顶起机构底座上设置的调节螺杆旋拧在真空离子源腔体底板上。本实用新型结构简单，安装方便，密封效果好，便于取放靶板。 | ||
| 搜索关键词： | 调式 基质 辅助 激光 解析 离子源 进出 装置 | ||
【主权项】：
一种可调式基质辅助激光解析离子源进出样装置，包括真空离子源腔体（1）以及设置在其内腔中的运动平台（2），所述运动平台（2）上方设置有用于安放靶板（3）的靶槽（4），所述真空离子源腔体（1）顶盖上开设有与所述靶槽（4）形状相匹配的通孔，所述通孔上方设置有密封压盖（5），位于所述密封压盖（5）下方的真空离子源腔体（1）底板上设置有顶起机构（6），通孔两侧分别设置有与密封压盖（5）和靶槽（4）相匹配的上密封圈（7）和下密封圈（8），其特征在于：所述顶起机构（6）底座和真空离子源腔体（1）底板之间均匀设置有多个压簧（9），顶起机构（6）底座上设置的调节螺杆（10）旋拧在真空离子源腔体（1）底板上。
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