[实用新型]一种沉积类金刚石薄膜装置有效
| 申请号： | 201620591975.0 | 申请日： | 2016-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN205803582U | 公开（公告）日： | 2016-12-14 |
| 发明（设计）人： | 邹杨;孙蕾;杨宜珍;邹松东;孙凌 | 申请（专利权）人： | 洛阳奥尔材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/06 |
| 代理公司： | 洛阳市凯旋专利事务所41112 | 代理人： | 陆君 |
| 地址： | 471000 河南省洛阳*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 一种沉积类金刚石薄膜装置，涉及一种金刚石薄膜装置，包括真空室（5）、工件台（7）和真空系统（8），在真空室（5）的上部设有与真空室（5）连接的真空系统（8），在真空室（5）内设有工件台（7），在真空室（5）的外部两侧分别设有矩形平面弧石墨靶（3）与矩形平面弧铬靶（4），在真空室（5）的顶部两侧分别设有柱状弧源清洗装置（1）与柱状弧靶（2），在真空室（5）上、柱状弧靶（2）的一侧设有加热系统（6）；本实用新型采用矩形平面靶沉积类金刚石薄膜，达到了金刚石含量高、膜层能做厚、涂层均匀、致密高的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 沉积 金刚石 薄膜 装置 | ||
【主权项】：
一种沉积类金刚石薄膜装置，包括真空室（5）、工件台（7）和真空系统（8），其特征是：在真空室（5）的上部设有与真空室（5）连接的真空系统（8），在真空室（5）内设有工件台（7），在真空室（5）的外部两侧分别设有矩形平面弧石墨靶（3）与矩形平面弧铬靶（4），在真空室（5）的顶部两侧分别设有柱状弧源清洗装置（1）与柱状弧靶（2），在真空室（5）上、柱状弧靶（2）的一侧设有加热系统（6）。
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