[实用新型]用于进行浸没场引导的曝光和曝光后烘烤工艺的装置有效
| 申请号： | 201620555173.4 | 申请日： | 2016-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN206057801U | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | D·A·小布齐伯格;S·K·南;V·巴巴扬;欧阳盼盼;L·戈代;S·D·耐马尼 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 金红莲 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及用于进行浸没场引导的曝光和曝光后烘烤工艺的装置。在一实施方式中，一种装置包括处理腔室，所述处理腔室包括基板支撑件，所述基板支撑件具有基板支撑表面；热源，所述热源嵌入在所述基板支撑件中，配置用于将定位在所述基板支撑表面上的基板加热；电极组件，所述电极组件被配置成在基本上垂直于所述基板支撑表面的方向上产生电场，其中所述电极组件与所述基板支撑表面相对地定位，使所述电极组件的向下表面面对所述基板支撑表面，其中所述电极组件与所述基板支撑件间隔开，以便在所述电极组件与所述基板支撑表面之间限定处理容积；以及约束环，所述约束环设置在所述基板支撑件或所述电极组件的边缘，配置用于保持中间介质。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 进行 浸没 引导 曝光 烘烤 工艺 装置 | ||
【主权项】：
一种用于进行浸没场引导的曝光和曝光后烘烤工艺的装置，所述装置包括：处理腔室，所述处理腔室包括：基板支撑件，所述基板支撑件具有基板支撑表面；热源，所述热源嵌入在所述基板支撑件中，配置用于将定位在所述基板支撑表面上的基板加热；电极组件，所述电极组件被配置成在基本上垂直于所述基板支撑表面的方向上产生电场，其中所述电极组件与所述基板支撑表面相对地定位，使所述电极组件的向下表面面对所述基板支撑表面，其中所述电极组件与所述基板支撑件间隔开，以便在所述电极组件与所述基板支撑表面之间限定处理容积；以及约束环，所述约束环设置在所述基板支撑件或所述电极组件的边缘，配置用于保持中间介质。
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