[实用新型]一种真空泵杂质沉淀装置有效
申请号: | 201620043461.1 | 申请日: | 2016-01-18 |
公开(公告)号: | CN205287885U | 公开(公告)日: | 2016-06-08 |
发明(设计)人: | 徐峰;刘志峰;周克亮;吕想想;张谷明;袁香 | 申请(专利权)人: | 江苏四通路桥工程有限公司 |
主分类号: | B01D45/16 | 分类号: | B01D45/16;F04D29/00;B65D88/54 |
代理公司: | 西安亿诺专利代理有限公司 61220 | 代理人: | 韩素兰 |
地址: | 215200 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型一种真空泵杂质沉淀装置涉及真空灌浆领域,具体涉及一种真空泵杂质沉淀装置,包括中空的沉淀罐体,所述沉淀罐体上设置有一进气管和排气管,所述进气管设置在沉淀罐体的顶部,进气管的中心轴线与沉淀罐体上表面所在平面相交,且进气管的排气端朝向沉淀罐体底部;所述沉淀罐体底部设置有一排污阀。本实用新型操作简单,利用沉淀罐体可有效去除真空泵前管路气体中的杂质,同时有效阻止操作失误时浆液进入真空泵泵体的可能性,从而减少对真空泵泵体及叶轮的磨损和腐蚀,提高真空装置的工作效率和使用寿命,保证预应力孔道压浆质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空泵 杂质 沉淀 装置 | ||
【主权项】:
一种真空泵杂质沉淀装置,包括中空的沉淀罐体(1),其特征在于,所述沉淀罐体(1)上设置有一进气管(2)和排气管(3),所述进气管(2)设置在沉淀罐体(1)的顶部,进气管(2)的中心轴线与沉淀罐体(1)上表面所在平面相交,且进气管(2)的排气端朝向沉淀罐体(1)底部;所述沉淀罐体(1)底部设置有一排污阀(4)。
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