[发明专利]一种基于离散系数评价磨粒轨迹均匀性的方法在审

专利信息
申请号: 201611262372.7 申请日: 2016-12-30
公开(公告)号: CN106815417A 公开(公告)日: 2017-06-09
发明(设计)人: 陈珍珍;文东辉;章少杰 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 杭州浙科专利事务所(普通合伙)33213 代理人: 吴秉中
地址: 310014 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于离散系数评价磨粒轨迹均匀性的方法,首先将研磨盘划分出n个网格划分区域,并建立以研磨盘回转中心O1为原点的绝对坐标系σ1=[O1,x1,y1]和以工件盘回转中心O2为原点的相对坐标系σ2=[O2,x2,y2],取研磨盘上任意一颗磨粒P,在研磨盘旋转和工件沿相对坐标系σ2旋转的同时,取指定时间段t,统计出每个网格划分区域内的轨迹点个数,计算所有的网格划分区域内轨迹点个数的均值和每个网格划分区域内轨迹均匀性的标准差,由此计算轨迹均匀性的离散系数表征函数作为轨迹均匀性的评判标准。本发明通过引入表征函数—离散系数,可以更加全面的评价研磨加工过程中磨粒轨迹的均匀性,为研磨加工过程中磨粒轨迹的均匀性以及研磨盘均匀磨损的运动学设计提供合理的理论依据。
搜索关键词: 一种 基于 离散 系数 评价 轨迹 均匀 方法
【主权项】:
一种基于离散系数评价磨粒轨迹均匀性的方法,其特征在于:包括如下步骤:(1)将研磨盘划分出n个均等的网格划分区域,并建立以研磨盘回转中心O1为原点的绝对坐标系σ1=[O1,x1,y1]和以工件盘回转中心O2为原点的相对坐标系σ2=[O2,x2,y2],研磨盘沿绝对坐标系σ1的原点O1旋转,相对坐标系σ2以角速度ωw随工件旋转;(2)取研磨盘上任意一颗磨粒P,在研磨盘沿绝对坐标系σ1旋转和工件沿相对坐标系σ2旋转的同时,取指定时间段t,统计出每个网格划分区域内的轨迹点个数,并设第k个网格划分区域内轨迹点个数为Qk(k=1,2,...,n);(3)计算所有的网格划分区域内轨迹点个数的均值其计算公式为:Q‾=Q1+Q2+...+Qk+...+Qn-1+Qnn;]]>(4)计算第k个网格划分区域内轨迹均匀性的标准差,其计算公式为:SQ=Σk=1n(Qk-Q‾)2n-1;]]>(5)计算第k个网格划分区域内轨迹均匀性的离散系数表征函数,其计算公式为:CV=SQ/Q‾=SQ=Σk=1n(Qk-Q‾)2n-1/Q‾=Σk=1n(Qk-Q‾)2(n-1)Q‾2;]]>(6)根据每个网格划分区域内轨迹均匀性的离散系数CV来判断磨粒轨迹的均匀性,CV越大,磨粒轨迹均匀性越差;CV越小,磨粒轨迹均匀性越好。
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