[发明专利]一种基于离散系数评价磨粒轨迹均匀性的方法

权利要求书

1.一种基于离散系数评价磨粒轨迹均匀性的方法，其特征在于：包括如下步骤：

(1)将研磨盘划分出n个均等的网格划分区域，并建立以研磨盘回转中心O₁为原点的绝对坐标系σ₁＝[O₁,x₁,y₁]和以工件盘回转中心O₂为原点的相对坐标系σ₂＝[O₂,x₂,y₂]，研磨盘沿绝对坐标系σ₁的原点O₁旋转，相对坐标系σ₂以角速度ω_w随工件旋转；

(2)取研磨盘上任意一颗磨粒P，在研磨盘沿绝对坐标系σ₁旋转和工件沿相对坐标系σ₂旋转的同时，取指定时间段t，统计出每个网格划分区域内的轨迹点个数，并设第k个网格划分区域内轨迹点个数为Q_k(k＝1,2,...,n)；

(3)计算所有的网格划分区域内轨迹点个数的均值其计算公式为：

$\stackrel{\‾}{Q}=\frac{Q_1+Q_2+\mathrm{...}+Q_k+\mathrm{...}+Q_{n-1}+Q_n}{n};$

(4)计算第k个网格划分区域内轨迹均匀性的标准差，其计算公式为：

$S_Q=\sqrt{\frac{\underset{k=1}{\overset{n}{\mathrm{\Σ}}}{(Q_k-\stackrel{\‾}{Q})}^2}{n-1}};$

(5)计算第k个网格划分区域内轨迹均匀性的离散系数表征函数，其计算公式为：

$CV=S_Q/\stackrel{\‾}{Q}=S_Q=\sqrt{\frac{\underset{k=1}{\overset{n}{\mathrm{\Σ}}}{(Q_k-\stackrel{\‾}{Q})}^2}{n-1}}/\stackrel{\‾}{Q}=\sqrt{\frac{\underset{k=1}{\overset{n}{\mathrm{\Σ}}}{(Q_k-\stackrel{\‾}{Q})}^2}{(n-1){\stackrel{\‾}{Q}}^2}};$

(6)根据每个网格划分区域内轨迹均匀性的离散系数CV来判断磨粒轨迹的均匀性，CV越大，磨粒轨迹均匀性越差；CV越小，磨粒轨迹均匀性越好。