[发明专利]图像传感器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201611217129.3 申请日: 2016-12-26
公开(公告)号: CN107026182B 公开(公告)日: 2022-05-03
发明(设计)人: 魏嘉余;萧晋勋;邱柏钧;郑宇轩;许永隆;陈信吉;郑静玲 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明实施例提供了一种图像传感器,包括衬底、沟槽隔离件、多个图像感测单元、至少一个相位检测单元,以及互连层。沟槽隔离件在衬底中,以及衬底的多个有源区通过沟槽隔离件彼此分隔。图像感测单元和至少一个相位检测单元在布置为阵列的有源区中,以及至少一个相位检测单元的感测面积比图像感测单元的每个的感测面积小。互连层设置在图像感测单元和至少一个相位检测单元上。此外,还提提供了图像传感器的制造方法。本发明实施例涉及图像传感器及其制造方法。
搜索关键词: 图像传感器 及其 制造 方法
【主权项】:
一种图像传感器,包括:衬底;沟槽隔离件,位于所述衬底中,其中,所述衬底的多个有源区通过所述沟槽隔离件彼此分隔;多个图像感测单元;至少一个相位检测单元,其中,所述图像感测单元和所述至少一个相位检测单元位于布置为阵列的所述有源区中,以及所述至少一个相位检测单元的感测面积小于所述图像感测单元的每个的感测面积;以及互连层,设置在所述图像感测单元和所述至少一个相位检测单元上。
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