[发明专利]一种用于提高气体绝缘系统中环氧绝缘耐放电性能的方法在审

专利信息
申请号: 201611198910.0 申请日: 2016-12-22
公开(公告)号: CN106782941A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 安振连;阙龙凯;马勇;单芳婷 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: H01B17/50 分类号: H01B17/50;H01B19/04
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 赵志远
地址: 200092 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种用于提高气体绝缘系统中环氧绝缘耐放电性能的方法,该方法是在密闭反应室中,于适宜的温度及压力条件下,使用氟气与氮气的混合气或氟气与惰性气的混合气对环氧绝缘进行氟化处理,在环氧绝缘表面形成含C‑F键的氟化层,用以提高环氧绝缘的耐放电性能。与现有技术相比,本发明方法工艺步骤简单,可控性好,经济成本低,能批量、均匀地改性具有任意形状和尺寸的环氧绝缘件,特别适合于商业化应用。
搜索关键词: 一种 用于 提高 气体 绝缘 系统 中环氧 放电 性能 方法
【主权项】:
1.一种用于提高气体绝缘系统中环氧绝缘耐放电性能的方法,其特征在于,该方法是在密闭反应室中,于适宜的温度及压力条件下,使用氟气与氮气的混合气或氟气与惰性气的混合气对环氧绝缘进行氟化处理,在环氧绝缘表面形成厚度为0.3-2μm的含有C-F键的氟化层,用以提高环氧绝缘的耐放电性能。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于同济大学,未经同济大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611198910.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top