[发明专利]荧光免疫层析测试基线数据的处理方法

摘要

本发明提供了一种处理荧光免疫层析测试基线数据的方法，包括提供一免疫层析试纸条、一激发光源和一受激光读取装置，使所述激发光源产生激发光，照射在所述层析试纸条的近端上，从而形成光斑，并通过所述受激光读取装置读取光斑区域发出的受激光；通过所述控制装置控制光斑在试纸条上沿层析试纸条的近端至远端方向，从当前位置移动到下一位置，并读取下一位置处光斑区域发出的受激光；基于读取的受激光信号强度，采用拟合基线法确定基线所在曲线。

主权项

1.一种处理荧光免疫层析测试基线数据的方法，包括步骤：(1)提供一免疫层析试纸条、一激发光源和一受激光读取装置，其中，所述激发光源用于产生激发光，所述激发光被照射在所述层析试纸条上，从而形成光斑；并且所述的激发光源配有控制装置，用于控制所述的免疫层析试纸条和所述激发光源的相对位置，从而使得所述光斑沿所述层析试纸条的长度方向进行移动；其中，所述的免疫层析试纸条设有测试线，所述试纸条长度为L₀，宽度为W₀，所述测试线长度为L_t；(2)使所述激发光源产生激发光，照射在所述层析试纸条的近端上，从而形成光斑，并通过所述受激光读取装置读取光斑区域发出的受激光；(3)通过所述控制装置控制光斑在试纸条上沿层析试纸条的近端至远端方向，从当前位置移动到下一位置，并读取下一位置处光斑区域发出的受激光；(4)重复步骤(3)Z‑1次，Z为≥10的正整数，直至所述光斑扫过测试线；(5)基于读取的受激光信号强度，设信号峰前n个点的信号强度值的算术平均值为设信号峰后m个点的信号强度值的算术平均值为当时，采用拟合基线法确定基线所在曲线，其中，n≥2，且m≥2。