[发明专利]通过表面动力学模型优化进行蚀刻轮廓匹配的方法和装置在审
| 申请号： | 201611166040.9 | 申请日： | 2016-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN107045560A | 公开（公告）日： | 2017-08-15 |
| 发明（设计）人： | 穆罕默德·德里亚·特泰克;萨拉瓦纳普里亚·西里拉曼;安德鲁·D·贝利三世;朱莱恩·休布;亚历克斯·帕特森;理查德·A·戈奇奥 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所31263 | 代理人： | 李献忠,邱晓敏 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及通过表面动力学模型优化进行蚀刻轮廓匹配的方法和装置。公开了优化计算机化模型的方法，其通过使用多个模型参数将半导体器件上的蚀刻特征轮廓与成组的独立输入参数相关联。所述优化方法可以修改模型参数以便利用模型生成的蚀刻轮廓使得其减小表示在使用成组的独立输入参数的不同的成组的值执行的试验蚀刻工艺获得的蚀刻轮廓与从模型产生的并且对应于试验蚀刻轮廓的计算蚀刻轮廓之间的组合差的尺度。所述尺度可以通过将计算蚀刻轮廓和对应的实验蚀刻轮廓投射到用于计算这些轮廓之间的差的经降维的子空间上来计算。本文还公开了采用这种优化的模型的系统，以及使用这种模型近似地确定蚀刻特征的轮廓的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 表面 动力学 模型 优化 进行 蚀刻 轮廓 匹配 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种优化计算机化模型的方法，其通过使用多个模型参数将半导体器件上的蚀刻特征轮廓与成组的独立输入参数相关联，所述方法包括：(a)为所选定的待优化的成组的所述模型参数确定成组的值；(b)为所选定的成组的独立输入参数确定多组成组的值以进行优化；(c)对于在(b)中所指定的每组成组的值，接收从使用在(b)中所指定的所述成组的值执行的试验蚀刻工艺得到的试验蚀刻轮廓；(d)对于在(b)中所指定的每组成组的值，由所述模型使用在(a)和(b)中所指定的所述成组的值生成计算蚀刻轮廓；以及(e)修改在(a)中为所选定的成组的模型参数所指定的一个或多个值，并且用经修改的所述成组的值重复(d)，以便对于在(b)中为所选定的独立输入参数所指定的所有成组的值，减少指示在(c)中所接收的所述试验蚀刻轮廓和在(d)中生成的对应的计算蚀刻轮廓之间的组合差的尺度；其中在(e)中的计算所述尺度包括：将所述计算蚀刻轮廓和对应的试验蚀刻轮廓投射到经降维的子空间上；以及计算投射到所述子空间上的所述轮廓之间的差。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于朗姆研究公司，未经朗姆研究公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201611166040.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：CCD像元结构
- 下一篇：一种显示面板、显示装置和显示面板的制造方法
