[发明专利]一种制备三羰基锝-99m中间体的方法有效

专利信息
申请号: 201611160206.6 申请日: 2016-12-15
公开(公告)号: CN106745346B 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 杨文江;刘宇;薛井泉;张延华 申请(专利权)人: 中国科学院高能物理研究所
主分类号: C01G99/00 分类号: C01G99/00;C07F13/00
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 吴娅妮;于宝庆
地址: 100049 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种制备三羰基锝‑99m中间体的方法,包括以羰基锰化合物作为一氧化碳供体,与高锝酸根及水反应,制得所述三羰基锝‑99m中间体。本发明一实施方式的制备三羰基锝‑99m中间体的方法,在常压、室温下即可完成该中间体的制备,操作简便、原料易得、标记率高,可以用于制备各类三羰基锝标记的探针。
搜索关键词: 羰基锝 制备 高锝酸根 一氧化碳 标记率 水反应 羰基锰 常压 供体 探针
【主权项】:
1.一种制备三羰基锝‑99m中间体的方法,包括以羰基锰化合物作为一氧化碳供体,在紫外光照射和/或还原剂的作用下,与高锝酸根及水反应,制得所述三羰基锝‑99m中间体;其中,所述高锝酸根在还原剂的作用下与所述羰基锰化合物及水反应,所述羰基锰化合物选自十羰基二锰和/或五羰基卤化锰;所述高锝酸根在还原剂的作用下,通过紫外光照射与所述羰基锰化合物及水反应,所述羰基锰化合物选自环戊二烯三羰基锰、甲基环戊二烯三羰基锰及环戊二烯甲酸三羰基锰中的一种或多种;所述高锝酸根在紫外光照射的作用下与1‑环戊二烯三羰基锰‑N,N,N‑三甲基硼氢化甲铵及水反应;所述还原剂为硼氢化钠或氨硼烷。
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