[发明专利]一种碳化硅单晶生长热场结构中的石墨板涂层的制备方法有效
申请号: | 201611125961.0 | 申请日: | 2016-12-09 |
公开(公告)号: | CN106544724B | 公开(公告)日: | 2019-01-22 |
发明(设计)人: | 高宇;杨继胜;杨昆;郑清超 | 申请(专利权)人: | 河北同光晶体有限公司 |
主分类号: | C30B23/00 | 分类号: | C30B23/00;C30B29/36;C01B32/194;C23C16/14 |
代理公司: | 北京连城创新知识产权代理有限公司 11254 | 代理人: | 郝学江 |
地址: | 071051 河北省保定市北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明的碳化硅单晶生长热场结构中的石墨板涂层的制备方法,包括如下步骤:1)制备TaCl5正丁醇溶液;2)将多孔石墨板放入真空炉内,进行升温;3)以惰性气体作为载气通入TaCl5正丁醇溶液,所述惰性气体携带气态TaCl5正丁醇溶液,通入所述真空炉的炉腔内;4)载气内的TaCl5在发生分解,并与多孔石墨发生反应,生成TaC和Ta,用于在多孔石墨空隙表面形成致密的TaC和Ta混杂涂层;5)将步骤4)制备好的多孔石墨板放入真空炉内,煅烧5‑10小时;由于TaC镀层在高温下可以抗碳化硅蒸汽、硅蒸汽腐蚀,因此避免多孔石墨材料在碳化硅生长气氛下粉化,能在晶体生长全周期内起到更好的过滤原料中碳微粒的作用,从而进一步减少晶体内碳包裹物密度。 | ||
搜索关键词: | 一种 碳化硅 生长 结构 中的 石墨 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种碳化硅单晶生长热场结构中的石墨板涂层的制备方法,其中,所述石墨板位于颗粒状原料的上方,用于过滤碳化硅蒸汽中的碳颗粒,其特征在于,所述涂层的制备方法包括如下步骤:1)制备TaCl5正丁醇溶液;2)将多孔石墨板放入真空炉内,进行升温;3)以惰性气体作为载气通入TaCl5正丁醇溶液,所述惰性气体携带气态TaCl5正丁醇溶液,通入所述真空炉的炉腔内;4)载气内的TaCl5发生分解,并与多孔石墨发生反应,生成TaC和Ta,用于在多孔石墨空隙表面形成致密的TaC和Ta混杂涂层;5)将步骤4)制备好的多孔石墨板放入真空炉内,煅烧5‑10小时,从而使原有的Ta在石墨体系内全部转化为TaC晶粒,并且和原有TaC晶粒在高温下逐步长大,并进一步致密化;6)将具有致密TaC涂层的多孔石墨板覆盖在碳化硅颗粒状原料表面,将原料与籽晶隔离后进行晶体生长。
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