[发明专利]一种晶界扩散Al‑Cu合金提高钕铁硼磁体耐蚀性的方法在审

专利信息
申请号: 201611101093.2 申请日: 2016-12-05
公开(公告)号: CN106783124A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 余红雅;邓晶;曾德长;郑志刚 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01F41/02 分类号: H01F41/02;H01F1/057;C23C10/26
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司44102 代理人: 何淑珍
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种晶界扩散Al‑Cu合金提高钕铁硼磁体耐蚀性的方法,属于稀土磁性材料领域。该方法将低熔点高电位Al‑Cu合金普通铸锭粗破、球磨后直接作为钕铁硼磁体的表面扩散源,经过扩散热处理和退火热处理,在钕铁硼磁体的晶界形成一层富Al‑Cu的薄层,从而获得高耐腐蚀性钕铁硼磁体。本发明以Al‑Cu合金作为扩散源,可以避免直接在铸锭中添加Al、Cu元素,非磁性Al、Cu进入主相产生磁稀释作用,降低磁体的剩磁;还能同时提高磁体的耐腐蚀性能和磁性能,因为晶界扩散能提高晶界相化学稳定性,优化显微结构,改善晶界相的分布,提高磁体密度。
搜索关键词: 一种 扩散 al cu 合金 提高 钕铁硼 磁体 耐蚀性 方法
【主权项】:
一种晶界扩散Al‑Cu合金提高钕铁硼磁体耐蚀性的方法,其特征在于,该方法将低熔点高电位Al‑Cu合金铸锭粗破、球磨后直接作为钕铁硼磁体的表面扩散源,经过扩散热处理,在钕铁硼磁体的晶界处形成一层富Al‑Cu相,使晶界相的电极电位提高,从而获得高耐蚀性钕铁硼磁体。
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