[发明专利]一种氢化物气相外延反应室旋转流动装置在审
| 申请号： | 201611095723.X | 申请日： | 2016-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN106835267A | 公开（公告）日： | 2017-06-13 |
| 发明（设计）人： | 李成明;刘鹏;张国义 | 申请（专利权）人： | 东莞市中镓半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/14 | 分类号： | C30B25/14;C30B29/40 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司44102 | 代理人： | 罗晓林,杨桂洋 |
| 地址： | 523000 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种氢化物气相外延反应室旋转流动装置，包括反应室，该反应室上设有进气机构和排气口，反应室内设有石墨舟，所述反应室内壁上设有旋转涡流产生装置，该旋转涡流产生装置位于石墨舟边缘与反应室内侧壁之间，该旋转涡流产生装置将从进气机构中进入到反应室内的气体引导至石墨舟并产生涡流流动，旋转涡流产生装置为喷管射流混合装置，该喷管射流混合装置包括至少两个对称设置在反应室内侧壁的喷管，喷管上设置至少一个吸入口，喷管的进气口与进气机构连接。本发明利用涡流，使气体与材料充分混合，在反应腔的石墨舟表面形成组份分布更加均一恒定的反应源材料，生成材料组份相同、厚度也相同的GaN薄膜晶体材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氢化物 外延 反应 旋转 流动 装置 | ||
【主权项】：
一种氢化物气相外延反应室旋转流动装置，包括反应室，该反应室上设有进气机构和排气口，反应室内设有石墨舟，其特征在于，所述反应室内壁上设有旋转涡流产生装置，该旋转涡流产生装置位于石墨舟边缘与反应室内侧壁之间，该旋转涡流产生装置将从进气机构中进入到反应室内的气体引导至石墨舟并产生涡流流动。
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