[发明专利]一种沟槽绝缘栅双极型晶体管有效

专利信息
申请号: 201611094731.2 申请日: 2016-12-02
公开(公告)号: CN106601800B 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 王颖;刘彦娟;于成浩;曹菲 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/06
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 杜军
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提出了一种沟槽绝缘栅双极型晶体管,包括N‑型电压阻挡层、P型沟道区、P+欧姆接触区、N+发射区、P‑集电区、P+集电极区、N+衬底层以及沟槽栅极、栅氧介质层;其中,所述N‑型电压阻挡层和P型沟道区之间还存在一层N型电流增强层,所述的N‑型电压阻挡层与P型集电区之间存在一层N型缓冲层。该新结构背部具有一个由N‑型电压阻挡层、P‑集电区和N+衬底层组成的NPN晶体管,该NPN晶体管在器件关断过程中为N‑型电压阻挡层内存储的过量电子提供一个快速抽取的通道,减小器件的关断时间,从而减小器件的关断损耗,进而改善器件的通态压降与关断损耗之间的折衷关系。
搜索关键词: 一种 沟槽 绝缘 栅双极型 晶体管
【主权项】:
一种沟槽绝缘栅双极型晶体管,特征在于:N‑型电压阻挡层上依次设有N型电流增强层、P型沟道区、由栅氧介质层和多晶硅栅电极构成的沟槽结构;所述的多晶硅栅电极通过栅氧介质层与所述的N+发射区、P型沟道区、N‑型电压阻挡层相隔离;P+欧姆接触区和N+发射区设置在P型沟道区上;沟槽结构下面设有P+电场屏蔽区;N型缓冲层设置在N‑型电压阻挡层下方,P‑集电区、P+集电区设置在N型缓冲层下方,N+衬底层设置在P‑集电区的下方,发射极电极位于P+欧姆接触区和N+发射区上面,并与P+欧姆接触区和N+发射区连接;所述集电极电极位于器件的底部,与N+衬底层和P+集电区相连接。
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