[发明专利]一种量子点的后处理方法有效
| 申请号： | 201611083466.8 | 申请日： | 2016-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN106753330B | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 杨一行;杨成玉;刘政;钱磊;曹蔚然 | 申请（专利权）人： | TCL科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K11/02 | 分类号： | C09K11/02;C09K11/88;C09K11/56;C09K11/70;B82Y20/00;B82Y40/00;C01G9/08 |
| 代理公司： | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人： | 王永文;刘文求 |
| 地址： | 516006 广东省惠州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种量子点的后处理方法，后处理方法包括步骤：在含有未反应前驱体的量子点溶液中加入多元硫醇，然后在一定的温度下进行反应；反应结束后冷却至室温，然后进行离心分离并弃掉液相，用溶剂冲洗固相后干燥，即获得不含未反应前驱体的量子点。本发明通过在含有残留或者过量未反应前驱体的量子点反应体系或者溶液体系中加入一定比例的多元硫醇，并在合适的温度下反应后，直接进行离心分离及冲洗干燥，即可获得不含以上未反应前驱体的高纯度量子点固体样品。另外，本发明将上述所获得的高纯度量子点固体样品与所要溶解的溶剂混合后加入一定比例的单元硫醇，并在合适的温度下反应后，即可获得分散良好的量子点溶液。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 量子 处理 方法 | ||
【主权项】：
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