[发明专利]显示装置、显示装置的校正方法、制造方法、及显示方法有效

专利信息
申请号: 201610987309.3 申请日: 2016-11-10
公开(公告)号: CN106847185B 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 土田臣弥 申请(专利权)人: 株式会社日本有机雷特显示器
主分类号: G09G3/3233 分类号: G09G3/3233
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 高迪
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种既能够确保校正的精确度,又能够降低校正数据容量以及传输速率的显示装置、显示装置的校正方法、制造方法、显示方法。在具有按照亮度信号来发光的有机EL元件(401)的像素(400)被配置成矩阵状的显示装置(1)的校正方法中,包括:获得步骤(S10),预先获得由与像素对应的多个校正数据成分构成的、用于对亮度信号进行校正的第一校正数据;转换步骤(S30),针对第一校正数据,将与各个像素对应的校正数据成分的误差成分传播到该各个像素的周边像素并进行重构(S20),通过对该被重构的各个像素的校正数据成分进行比特削减,从而转换为第二校正数据;以及校正步骤(S60),利用第二校正数据对亮度信号进行校正。
搜索关键词: 显示装置 校正 方法 制造 显示
【主权项】:
一种显示装置的校正方法,对显示装置的亮度不均匀进行校正,在该显示装置中,具有按照亮度信号来发光的发光元件的像素被配置成矩阵状,该显示装置的校正方法包括:获得步骤,预先获得第一校正数据,该第一校正数据由与所述像素对应的多个校正数据成分构成,用于对所述亮度信号进行校正;转换步骤,针对所述第一校正数据,将与各个像素对应的校正数据成分的误差成分传播到该各个像素的周边像素并进行重构,通过对该被重构的各个像素的校正数据成分进行比特削减,从而所述第一校正数据被转换为第二校正数据;以及校正步骤,利用所述第二校正数据,对所述亮度信号进行校正。
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