[发明专利]显示装置、显示装置的校正方法、制造方法、及显示方法有效

专利信息
申请号: 201610987309.3 申请日: 2016-11-10
公开(公告)号: CN106847185B 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 土田臣弥 申请(专利权)人: 株式会社日本有机雷特显示器
主分类号: G09G3/3233 分类号: G09G3/3233
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 高迪
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置 校正 方法 制造 显示
【权利要求书】:

1.一种显示装置的校正方法,对显示装置的亮度不均匀进行校正,在该显示装置中,具有按照亮度信号来发光的发光元件的像素被配置成矩阵状,

该显示装置的校正方法包括:

获得步骤,预先获得第一校正数据,该第一校正数据由与所述像素对应的多个校正数据成分构成,用于对所述亮度信号进行校正;

转换步骤,针对所述第一校正数据,将与各个像素对应的校正数据成分的误差成分传播到该各个像素的周边像素并进行重构,通过对该被重构的各个像素的校正数据成分进行比特削减,从而所述第一校正数据被转换为第二校正数据;以及

校正步骤,利用所述第二校正数据,对所述亮度信号进行校正,

在所述转换步骤中,根据预先算出的阈值数据,将构成所述第一校正数据的所述多个校正数据成分传播到周边像素,

在所述校正步骤中,利用所述阈值数据以及所述第一校正数据被量化后的离散值的至少一方,将构成所述第二校正数据的多个校正数据成分的每一个,展开为比所述第二校正数据的比特高的数据,并利用该被展开的所述第二校正数据,对所述亮度信号进行校正。

2.如权利要求1所述的显示装置的校正方法,

进一步包括保存步骤,在所述转换步骤之后,将所述第二校正数据预先保存到所述显示装置所具有的存储器中,

在所述校正步骤中,读出被保存在所述存储器的所述第二校正数据,并利用该第二校正数据,对所述亮度信号进行校正。

3.如权利要求1或2所述的显示装置的校正方法,

在所述转换步骤中,对构成所述第一校正数据的所述多个校正数据成分进行误差扩散,对该误差扩散后的所述多个校正数据成分进行比特削减,从而所述第一校正数据被转换为第二校正数据。

4.如权利要求1或2所述的显示装置的校正方法,

在所述转换步骤中,对各个像素的校正数据成分进行二值化,从而将所述第一校正数据转换为所述第二校正数据,所述各个像素的校正数据成分是,针对所述第一校正数据,将与各个像素对应的校正数据成分传播到该各个像素的周边像素并进行重构而得到的数据成分。

5.一种显示装置的制造方法,在该显示装置中,具有按照亮度信号来发光的发光元件的像素被配置成矩阵状,

该显示装置的制造方法包括:

显示板形成步骤,形成配置了多个所述像素的显示板;

获得步骤,预先获得第一校正数据,该第一校正数据由与所述像素对应的多个校正数据成分构成,用于对所述亮度信号进行校正;

转换步骤,针对所述第一校正数据,将与各个像素对应的校正数据成分的误差成分传播到该各个像素的周边像素并进行重构,通过对该被重构的各个像素的校正数据成分进行比特削减,从而所述第一校正数据被转换为第二校正数据;以及

保存步骤,在所述转换步骤之后,将所述第二校正数据保存到所述显示装置所具有的存储器中,

在所述转换步骤中,根据预先算出的阈值数据,将构成所述第一校正数据的所述多个校正数据成分传播到周边像素,

以使所述显示装置能够利用所述阈值数据以及所述第一校正数据被量化后的离散值的至少一方,将构成所述第二校正数据的多个校正数据成分的每一个,展开为比所述第二校正数据的比特高的数据,以使所述显示装置能够利用该被展开的所述第二校正数据,对所述亮度信号进行校正。

6.如权利要求5所述的显示装置的制造方法,

在所述转换步骤中,对构成所述第一校正数据的所述多个校正数据成分进行误差扩散,对该误差扩散后的所述多个校正数据成分进行比特削减,从而所述第一校正数据被转换为第二校正数据。

7.如权利要求5或6所述的显示装置的制造方法,

在所述转换步骤中,对各个像素的校正数据成分进行二值化,从而将所述第一校正数据转换为所述第二校正数据,所述各个像素的校正数据成分是,针对所述第一校正数据,将与各个像素对应的校正数据成分传播到该各个像素的周边像素并进行重构而得到的数据成分。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日本有机雷特显示器,未经株式会社日本有机雷特显示器许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610987309.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top