[发明专利]一种在C/SiC复合材料表面制备SiC纳米线的方法在审

专利信息
申请号: 201610935892.3 申请日: 2016-11-01
公开(公告)号: CN108017413A 公开(公告)日: 2018-05-11
发明(设计)人: 王彤;于新民;李晓东 申请(专利权)人: 航天特种材料及工艺技术研究所
主分类号: C04B41/85 分类号: C04B41/85
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100074 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种在C/SiC复合材料表面制备SiC纳米线的方法,包括以下步骤:首先,制备二氧化硅粉和碳粉的混合粉备用,然后对C/SiC复合材料样品进行喷砂处理,使其表面具有一定的粗糙度,接着采用PIP工艺在样品表面引入碳源,最后,将制得的样品悬空置于硅粉和碳粉的混合物上方,采用化学气相反应法在C/SiC复合材料表面制备SiC纳米线,本发明首次在C/SiC复合材料表面引入碳源并成功制备了SiC纳米线,解决了在C/SiC复合材料表面强韧化陶瓷涂层增韧相的制备问题,并且SiC纳米线能够大量生成,使得SiC纳米线完全覆盖基体表面,本发明制备方法简单,扩宽了C/SiC复合材料的使用范围。
搜索关键词: 一种 sic 复合材料 表面 制备 纳米 方法
【主权项】:
1.一种在C/SiC复合材料表面制备SiC纳米线的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、将二氧化硅粉和碳粉混合均匀得到粉料,备用;步骤2、将C/SiC复合材料进行喷砂处理;步骤3、将步骤2制得的复合材料浸渍于碳源先驱体中,进行固化-裂解,继续重复该步骤,直至复合材料增重率达到0.5%~1%;步骤4、将步骤1制备的粉料置于石墨坩埚中,再将步骤3得到的C/SiC复合材料悬挂在石墨坩埚中粉料表面的上方,采用化学气相反应法,即可在C/SiC复合材料表面大量生成SiC纳米线。
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