[发明专利]磁性薄膜叠层的沉积方法、磁性薄膜叠层及微电感器件有效
| 申请号： | 201610929057.9 | 申请日： | 2016-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN108022751B | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 杨玉杰;丁培军;张同文;夏威;王厚工 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01F41/18 | 分类号： | H01F41/18;H01F10/14;H01F17/00;C23C14/34;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁性薄膜叠层的沉积方法、磁性薄膜叠层及微电感器件，该沉积方法包括以下步骤：S1，在待加工工件上沉积粘附层；S2，沉积磁性/隔离单元；磁性/隔离单元包括至少一对交替设置的磁性膜层和隔离层。本发明提供的磁性薄膜叠层的沉积方法，可以增大磁性薄膜叠层的总厚度，从而可拓宽由其制备所得的电感器件的应用频率范围。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性 薄膜 沉积 方法 电感 器件 | ||
【主权项】：
1.一种磁性薄膜叠层的沉积方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，在待加工工件上沉积粘附层；S2，在所述粘附层上沉积磁性/隔离单元；所述磁性/隔离单元包括至少一对交替设置的磁性膜层和隔离层。
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