[发明专利]存储器元件及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201610879742.5 申请日: 2016-10-09
公开(公告)号: CN107293550B 公开(公告)日: 2019-10-01
发明(设计)人: 陈士弘 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/11551 分类号: H01L27/11551;H01L27/11556
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 乔东峰
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种存储器元件,可减少三维垂直通道存储器元件相邻二区块之间的顶部导电结构。在一些实施例中,垂直的柱状体和串行选择线以及字线交叉,并且排列于一个被旋转的网格中,而形成“扭曲”的柱状体阵列。此处所述的三维NAND阵列结构呈现波浪状,顺着排列外缘柱状体的波浪线延伸。例如,串行选择线、字线、接地选择线和接地线任何一者具有波浪形状的侧边。
搜索关键词: 存储器 元件 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种存储器元件,包括:一NAND串行阵列,位于多条位线下方,所述位线沿着一位线方向延伸;多条串行选择线和多条字线,包括建构于多个导电层中的多个导电条带;一第一分页,包括该NAND串行阵列中的多条NAND串行,延伸穿过所述导电层,耦接至所述串行选择线中的一第一串行选择线;该第一分页中的所述NAND串行设置在一第一网格(grid)之中,该第一网格相对于该位线方向偏离了一偏离角度(off‑angle);且所述串行选择线的所述导电条带分别具有至少一弯曲侧边(curved sides)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司,未经旺宏电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610879742.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top