[发明专利]用于金刚线切割单晶硅片制绒的添加剂及其应用方法在审
| 申请号： | 201610870811.6 | 申请日： | 2016-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN106222756A | 公开（公告）日： | 2016-12-14 |
| 发明（设计）人： | 夏庆华;斯小阳;姚伟明 | 申请（专利权）人： | 杭州飞鹿新能源科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/10 | 分类号： | C30B33/10;C30B29/06;H01L31/18 |
| 代理公司： | 杭州裕阳专利事务所(普通合伙)33221 | 代理人： | 冯燕青 |
| 地址： | 310000 浙江省杭州市滨*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于金刚线切割单晶硅片制绒的添加剂，所述添加剂包括以下组分：脱泡剂、除污剂、绒面优化剂及水；其中各组分的重量比为：脱泡剂0.05~5％；除污剂1~10％；绒面优化剂；0.01~1%，余量为水。本发明配方简单，操作方便，制绒工艺简单，制绒重复性好，化学品消耗减少，降低了生产成本；不需要使用异丙醇或乙醇等醇类。应用于金刚线切割单晶硅片的绒面制作时，具有极佳的表面切割痕消除效果，表面乌黑洁净，可以获得均匀、细小、密集的绒面金字塔，金字塔尺寸在2‑3μm 之间，降低了单晶硅片的光反射率，电池片转换效率也得到相应提高。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 金刚 切割 单晶硅 片制绒 添加剂 及其 应用 方法 | ||
【主权项】：
用于金刚线切割单晶硅片制绒的添加剂，其特征在于，所述添加剂包括以下组分：脱泡剂、除污剂、绒面优化剂及水；其中各组分的重量比为：脱泡剂0.05 ~ 5％；除污剂1~10％；绒面优化剂；0.01~1%，余量为水。
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