[发明专利]清理装置、磁控溅射镀膜机及玻璃镀膜方法有效
| 申请号： | 201610856369.1 | 申请日： | 2016-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN106480418B | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 董清世;齐雪松;赵建平;王永星 | 申请（专利权）人： | 信义玻璃(天津)有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56;C03C17/00 |
| 代理公司： | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人： | 张全文 |
| 地址： | 300000 天津市滨*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明适用于离线镀膜设备技术领域，提供了一种清理装置，用于清理磁控溅射镀膜机，所述清理装置包括安装在传送装置上并沿传送装置的传送方向相对于挡板移动的传送主体以及固定于传送主体上并向上隆起以剥离清理磁控溅射镀膜机上的堆积溅射物的弹性件。本发明提供的清理装置在清理堆积溅射物时，只需在玻璃镀膜的过程中将清理装置安装在传送装置上，待清理装置由磁控溅射镀膜机入口被传送到出口时，即可完成清理，无需停机，更不需要拆机，大大降低了清理成本。 | ||
| 搜索关键词： | 清理 装置 磁控溅射 镀膜 玻璃 方法 | ||
【主权项】：
1.一种清理装置，用于清理磁控溅射镀膜机，所述磁控溅射镀膜机包括用于发射溅射原子的靶阴极、用于运输玻璃的传送装置以及设置在所述靶阴极和所述传送装置之间并形成有供所述溅射原子通过的溅射通道的一对挡板，所述溅射原子在所述挡板靠近所述传送装置一侧形成堆积溅射物，其特征在于，所述清理装置包括安装在所述传送装置上并沿所述传送装置的传送方向相对于所述挡板移动的传送主体以及固定于所述传送主体上并位于所述传送主体与所述挡板之间以剥离所述堆积溅射物的弹性件。
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