[发明专利]具有监控链及测试导线的集成电路测试结构有效
| 申请号： | 201610849441.8 | 申请日： | 2016-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN107037350B | 公开（公告）日： | 2019-10-01 |
| 发明（设计）人： | A·T·金;C·J·克里斯琴森;王平川 | 申请（专利权）人： | 格罗方德半导体公司 |
| 主分类号： | G01R31/28 | 分类号： | G01R31/28 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人： | 程伟;王锦阳 |
| 地址： | 英属开曼群*** | 国省代码： | 开曼群岛;KY |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及具有监控链及测试导线的集成电路测试结构。本发明的态样提供一种集成电路(integrated circuit；IC)测试结构。依据本发明的IC测试结构可包括：监控链，其第一端通过分别位于第一金属层级及第二金属层级的其中一个内的多条金属导线与第二端电性连接，其中，该第一金属层级与该第二金属层级垂直隔开；第一测试导线，位于该第一金属层级内并沿第一方向延伸，其中，该第一测试导线与该监控链电性绝缘；以及第二测试导线，位于该第二金属层级内并沿第二方向延伸，其中，该第二测试导线与该监控链及该第一测试导线电性绝缘，以及其中，该第一方向不同于该第二方向。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 监控 测试 导线 集成电路 结构 | ||
【主权项】：
1.一种集成电路测试结构，包括：监控链，其第一端通过分别位于至少一第一金属层级及至少一第二金属层级的多条金属导线与第二端电性连接，其中，该第一金属层级与该第二金属层级垂直隔开；第一测试导线，位于该第一金属层级内并沿第一方向延伸，其中，该第一测试导线与该监控链电性绝缘；以及第二测试导线，位于该第二金属层级内并沿第二方向延伸，其中，该第二测试导线与该监控链及该第一测试导线电性绝缘，以及其中，该第一方向不同于该第二方向。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于格罗方德半导体公司，未经格罗方德半导体公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610849441.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：半导体装置的评价装置及评价方法
- 下一篇：用于高压开关的测量装置
