[发明专利]一种提高温室甜樱桃大树移栽成活率的方法在审

专利信息
申请号: 201610764735.0 申请日: 2016-08-30
公开(公告)号: CN106358934A 公开(公告)日: 2017-02-01
发明(设计)人: 郑玮;潘凤荣;夏国芳;肖敏;赵柏霞;李俞涛;赵慧;张立恒;刘红霞 申请(专利权)人: 大连市农业科学研究院
主分类号: A01G17/00 分类号: A01G17/00;C05G3/00
代理公司: 大连智高专利事务所(特殊普通合伙)21235 代理人: 胡景波
地址: 116036 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及一种提高温室甜樱桃大树移栽成活率的方法,属于农业种植技术领域。本发明的方法主要包括如下步骤树体选择与预处理、挖掘、栽植和栽后管理。在移栽过程中还使用到由高磷冲施肥、五氯硝基苯、复硝酚钠、微生物菌剂、蔗糖和水按(6‑10)(1.0‑1.6)(0.001‑0.003)(0.2‑0.6)(40‑80)1000的重量份配比而成的混合液Ⅰ和由海藻叶面肥、生长激素调节剂和水按(0.4‑0.8)(0.01‑0.02)1000的重量份配比而成的混合液Ⅱ。本发明弥补了现有技术的不足,尤其是移栽后即可对大棚进行升温生产,当年就能产生经济效益,对果农来说,此方法具有良好的实际应用价值。
搜索关键词: 一种 提高 温室 樱桃 大树 移栽 成活率 方法
【主权项】:
一种提高温室甜樱桃大树移栽成活率的方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)树体选择与预处理:选取樱桃树,标记品种和树干的阴阳面;(2)挖掘:采用人工与机械相结合的方式进行;在距离树干直径2‑3倍开始,将根系进行断根处理,根系保留少许护心土并涂抹防腐剂;(3)栽植:10月中下旬至11月上旬进行栽植并使樱桃树的阴阳面与步骤(1)标记的保持一致;栽植时,植株行距为3m×4m;栽植坑深度比裸根根深10‑30cm,比裸根横向伸展尺寸宽10‑30cm;栽植时培土位置与树体原栽植高度保持一致;(4)栽后管理;所述混合液Ⅰ为高磷冲施肥、五氯硝基苯、复硝酚钠、微生物菌剂、蔗糖和水按(6‑10):(1.0‑1.6):(0.001‑0.003):(0.2‑0.6):(40‑80):1000的重量份配比而成;所述混合液Ⅱ为海藻叶面肥、生长激素调节剂和水按(0.4‑0.8):(0.01‑0.02):1000的重量份配比。
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