[发明专利]一种掩膜板清洗系统在审
| 申请号： | 201610695391.2 | 申请日： | 2016-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN107761050A | 公开（公告）日： | 2018-03-06 |
| 发明（设计）人： | 李浩永;金甲锡;裴泳镇;丁熙荣 | 申请（专利权）人： | 合肥欣奕华智能机器有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 230013 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜板清洗系统，利用等离子体真空清洗腔替换了现有的掩膜板清洗系统中的NMP溶液和KOH溶液对掩膜板表面的残留物进行清洗，等离子体可以去除掩膜板表面的有机物并活化无机物，以便在后续的湿式清洗腔中被去除。由于不在使用NMP溶液和KOH溶液进行清洗，从而抑制污染环境的物质排放，可以通过减少废水处理而节省成本；并且在采用干式的等离子体真空清洗代替部分湿式清洗后，也省去了为了避免清洗液之间相互污染而设置冲洗室的必要，因此，可以减少清洗系统所占用的空间，提高运营效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 清洗 系统 | ||
【主权项】：
一种掩膜板清洗系统，其特征在于，包括级联设置的以下腔室：用于采用等离子体清洗掩膜板表面的残留物的等离子体真空清洗腔；用于采用清洗液去除所述掩膜板表面的残留物的湿式清洗腔；以及，用于去除所述掩膜板表面的水分的烘干腔。
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