[发明专利]在使用搅拌器几何形状和运动控制的电镀处理器中的适应性电场屏蔽有效
| 申请号： | 201610687180.4 | 申请日： | 2016-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN106467978B | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 保罗·王·瓦肯布格;罗伯特·米科拉;保罗·R·麦克休;格雷戈里·J·威尔逊;凯尔·莫瑞安·汉森;艾里克·J·伯格曼;约翰·L·科洛克 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C25D21/10 | 分类号： | C25D21/10;C25D17/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在电镀装置中，桨或搅拌器搅拌容器中的电解液以在晶片表面处提供高速的流体流动。另外，搅拌器被设计和/或移动以有选择地屏蔽晶片的一部分(例如晶片边缘)免受容器中的电场影响。有选择地屏蔽可通过将搅拌器的平均位置暂时地朝向晶片的一侧偏移，通过省略或缩短搅拌器中的狭缝，和/或通过将搅拌器的运动与晶片旋转同步来实现。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 搅拌器 几何 形状 运动 控制 电镀 处理器 中的 适应性 电场 屏蔽 | ||
【主权项】：
暂无信息
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