[发明专利]一种提高大口径菲涅耳波带片衍射效率的方法在审
| 申请号： | 201610590654.3 | 申请日： | 2016-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN106842396A | 公开（公告）日： | 2017-06-13 |
| 发明（设计）人： | 张志宇;薛栋林;张学军;郑立功;张峰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心11120 | 代理人： | 高燕燕,仇蕾安 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种提高大口径菲涅耳波带片衍射效率的方法，该方法提出了混合多台阶的制作方法，所做出的菲涅尔波带片的衍射效率大幅提高。包括如下步骤根据菲涅耳波带片上区域i的设计线宽Li和光刻机加工的最小线宽l0确定区域i对应的台阶数2n；在石英玻璃基板上制备光刻胶掩模结构；进行第一次离子束刻蚀，在对应台阶数为2的区域加工出2台阶结构；清洗光刻胶，进行第一次套刻加工；进行第二次离子束刻蚀，在对应台阶数为4的区域加工出4台阶结构；清洗光刻胶，进行第二次套刻加工；依次类推，直至所有区域加工完成为止。刻蚀完成后，去除光刻胶，获得多台阶混合的多台阶菲涅耳波带片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 口径 菲涅耳 波带片 衍射 效率 方法 | ||
【主权项】：
一种提高大口径菲涅耳波带片衍射效率的方法，其特征在于，包括如下步骤步骤一、根据菲涅耳波带片上区域i的设计线宽Li和光刻机加工的最小线宽l0确定区域i对应的台阶数2n：即2n≤Li/l0≤2n+1；步骤二、在石英玻璃基板上制备光刻胶掩模结构；步骤三、进行第一次离子束刻蚀，在对应台阶数为2的区域加工出2台阶结构；步骤四、清洗光刻胶，进行第一次套刻加工；步骤五、进行第二次离子束刻蚀，在对应台阶数为4的区域加工出4台阶结构；步骤六、清洗光刻胶，进行第二次套刻加工；步骤七、进行第三次离子束刻蚀，在对应台阶数为8的区域加工8台阶结构；步骤八、依次类推，直至所有区域加工完成为止；步骤九、刻蚀完成后，去除光刻胶，获得多台阶混合的多台阶菲涅耳波带片。
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