[发明专利]一种电子元件去污剂在审
申请号: | 201610584459.X | 申请日: | 2016-07-22 |
公开(公告)号: | CN107641560A | 公开(公告)日: | 2018-01-30 |
发明(设计)人: | 蒋飞 | 申请(专利权)人: | 江苏纽唯盛机电有限公司 |
主分类号: | C11D1/00 | 分类号: | C11D1/00;C11D1/66;C11D3/60;C11D3/43;C11D3/20;C11D3/30;C11D3/28;C11D3/33 |
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地址: | 226500 江苏省南通*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种电子元件去污剂,其按照重量百分比的构成组份如下表面活性剂5‑8%,辅助溶剂2‑4%,防腐、防锈剂0.2‑0.4%,螯合剂0.1~1.0%,所述表面活性剂为离子‑非离子表面活性剂,所述辅助溶剂为多元醇类溶剂。本发明的优点在于本发明能对电子材料表面上的金属离子,有机及无机杂质和固体粒子进行有效清洗,清洗力强,清洗后可直接排液对环境无污染。 | ||
搜索关键词: | 一种 电子元件 去污剂 | ||
【主权项】:
一种电子元件去污剂,其特征在于:其按照重量百分比的构成组份如下:表面活性剂5‑8%,辅助溶剂2‑4%,防腐、防锈剂0.2‑0.4%,螯合剂0.1~1.0%,所述表面活性剂为离子‑非离子表面活性剂,所述辅助溶剂为多元醇类溶剂。
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