[发明专利]一种适用于CaF2材料超光滑加工的磁流体抛光液及制备方法有效
| 申请号: | 201610529324.3 | 申请日: | 2016-07-07 |
| 公开(公告)号: | CN106433478B | 公开(公告)日: | 2019-01-04 |
| 发明(设计)人: | 钟显云;万勇建;杨金山;李良红;张凌 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;H01F1/44 |
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| 地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种适用于CaF2材料超光滑加工的磁流体抛光液及制备方法,磁流体抛光液主要由羰基铁粉、双相基载液、添加剂、PH调节剂及磨料组成。组合的质量分数分别为84%‑87%,9%‑12%,1%‑3%,0.2%‑0.8%,0.5%‑1%;其制备方法步骤为:(1)将二氧化硅包袱的羰基铁粉经过研磨工艺处理,获得稳定、分散均匀、粒径≤3微米的羰基铁粉;(3)采用离子水、乙二醇及二甲基甲酰胺混合获取亲水性的双相基载液;(4)将添加剂、PH调节剂、磨料加入到基载液中,获取稳定悬浮液;(5)将悬浮液与处理过的羰基铁粉搅拌获得本发明的磁流体抛光液。本发明的磁流体抛光液性能稳定、分布均匀、流动性能好、可满足CaF2晶体材料曲面的超光滑加工。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 适用于 caf2 材料 光滑 加工 流体 抛光 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种适用于CaF2材料超光滑加工的磁流体抛光液的制备方法,其特征在于,磁流体抛光液包括以下主要成分:羰基铁粉、双相基载液、添加剂、PH添加剂以及磨料,各组分的质量百分比分别为84%‑87%,9%‑12%,1%‑3%,0.2%‑0.8%,0.5%‑1%;羰基铁粉为氧化还原处理的软性颗粒,表面包附一层0.05μm‑0.1μm厚度的二氧化硅膜,旨于提高羰基铁粉在酸性基载液中的抗腐蚀性,羰基铁粉需经过研磨处理,以此提高铁粉颗粒的均匀性;将软性羰基铁粉、Ф1mm、Ф3mm不锈钢研磨球按质量比例1:5:3混合并研磨,研磨罐公转速度为120RPM‑150RPM、自转速度为140RPM‑200RPM、反转时间间隔为15min‑20min、研磨时间为5‑8小时,然后利用0.1mm筛网将羰基铁粉过滤,研磨后羰基铁粉颗粒均匀,表面积平均粒径≤3微米;双相基载液由质量比例5:1:1的去离子水、乙二醇及二甲基甲酰胺组合;添加剂主要包括抗氧化剂、抗沉淀剂、触变剂及保湿剂,添加剂组合的质量比例分别为:3%‑6%、3%‑6%、3%‑6%、85%‑94%;抗氧化剂为亚硝酸钠或乙醇胺磷酸钠,抗氧化剂的功能在于保护抛光液中的磁性铁粉被氧化腐蚀;抗沉淀剂为乙二胺四乙酸四钠或乙二胺三乙酸钠,抗沉淀剂的功能在于防止抛光液中的微细颗粒抱团及结块;触变剂为羧甲基纤维素钠,触变剂的功能在于提升磁流体抛光液磨削过程的剪切应力;保湿剂为丙三醇,保湿剂的功能在于防止磁流体抛光液的水分流失,提高液体粘度稳定性;磨料为50nm颗粒度的金刚石磨削液;PH调节剂主要为氢氧化钠或碳酸氢钠或硼砂,PH调节剂的功能是通过基于工件酸碱度的适应性调节抛光液PH值,防止工件被抛光液酸碱腐蚀,同时,提高抛光液抗氧化性能;该适用于CaF2材料超光滑加工的磁流体抛光液的制备方法步骤为:(1)、将二氧化硅包附的软性羰基铁粉,Ф1mm、Ф3mm不锈钢研磨球按比例1:5:3混合并研磨,研磨罐公转速度为120RPM‑150RPM、自转速度为140RPM‑200RPM、反转时间间隔为15min‑20min、研磨时间为5‑8小时,然后利用0.1mm筛网将羰基铁粉过滤,即可得到颗粒均匀、粒径≤3微米的羰基铁粉;(2)、将去离子水、乙二醇及二甲基甲酰胺按比例5:1:1混合并充分搅拌20min‑30min,获得亲水性的双相基载液;(3)、将添加剂的抗氧化剂、抗沉淀剂、触变剂及保湿剂按组合质量比例3%‑6%、3%‑6%、3%‑6%、85%‑94%加入到质量比例为9%‑12%的双相基载液中,充分搅拌20min‑30min;(4)、将质量比例为0.2%‑0.8%的PH调节剂加入到步骤(3)配置好的双相基载液中,充分搅拌20min‑30min;(5)、将质量比例为0.5%‑1%的50nm颗粒度的金刚石抛光液加入到步骤(4)配置好的双相基载液中,充分搅拌20min‑30min;(6)、将步骤(1)配置好的羰基铁粉、步骤(5)配置好的双相基载液混合并充分搅拌1‑2小时,即可获得CaF2晶体材料超光滑加工的磁流变抛光液。
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