[发明专利]一种适用于CaF2材料超光滑加工的磁流体抛光液及制备方法有效
| 申请号： | 201610529324.3 | 申请日： | 2016-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN106433478B | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 钟显云;万勇建;杨金山;李良红;张凌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01F1/44 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 caf2 材料 光滑 加工 流体 抛光 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
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