[发明专利]一种提高OPC修正精度的方法有效
申请号: | 201610367932.9 | 申请日: | 2016-05-30 |
公开(公告)号: | CN105807555B | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 何大权;魏芳;朱骏;吕煜坤;张旭升 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;陈慧弘 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种提高OPC修正精度的方法,针对因受到邻近其他图形影响而无法得到最佳OPC结果的图形片段,在基于模型的OPC修正处理前,通过对局部图形边进行预处理,以改变后续基于模型的OPC处理中图形边的切割或分段结果,从而提高了OPC修正的精度,可得到更为优化的OPC结果。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 opc 修正 精度 方法 | ||
【主权项】:
1.一种提高OPC修正精度的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S01:输入目标图形,其具有一第一图形线,第一图形线两侧具有与之垂直的一至若干第二图形线和第三图形线,第二、第三图形线的线端之间存在一一对应的相互投射关系;步骤S02:检查所有第二、第三图形线的线端到同侧第一图形线的间距,选择间距小于一第一阈值的第二、第三图形线的线端作为密集线端;所述第一阈值大于设计规则规定的最小图形间距,且所述第一阈值不超过设计规则规定的最小图形间距1.5倍;步骤S03:在第一图形线上选择与同侧密集线端正对的图形边片段,并向两边延伸其长度至一第二阈值;所述第二阈值大于基于模型的OPC方法中对图形边进行分段或切割时定义的最小片段长度;步骤S04:在第一图形线的图形边上选择相互投射后投影重叠长度大于一第三阈值的图形边片段,得到图形边片段对;所述第三阈值大于最小片段长度、小于第二阈值;步骤S05:将图形边片段对往第一图形线的图形内部进行预收缩,得到在图形边片段对处具有局部凹槽的第一图形线图形,以形成新的OPC修正目标图形;步骤S06:对新的OPC修正目标图形进行基于模型的OPC处理,并进行OPC处理后的模拟检查。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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