[发明专利]一种金属蒸气辅助快速生长少层石墨烯的制备方法在审
| 申请号: | 201610345428.9 | 申请日: | 2016-05-23 | 
| 公开(公告)号: | CN105779964A | 公开(公告)日: | 2016-07-20 | 
| 发明(设计)人: | 杨超;吴天如;卢光远;张学富;王浩敏;谢晓明;江绵恒 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 
| 主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/44 | 
| 代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 唐棉棉 | 
| 地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 | 
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| 摘要: | 本发明提供一种金属蒸气辅助快速生长少层石墨烯的制备方法,包括:首先制备铜镍合金衬底;然后提供一金属片,将所述铜镍合金衬底和金属片进行清洗后置于化学气相沉积腔室内,其中,所述金属片位于所述铜镍合金衬底表面上方预设距离处;最后往所述化学气相沉积腔室内通入Ar和CH4的混合气氛,并且设置在一定压强和温度下,在所述铜镍合金上生长获得少层石墨烯。本发明利用高温下金属片产生的大量金属蒸气,在铜镍合金衬底表面形成一层富金属层,同时利用铜镍合金快速生长高质量石墨烯的特点,通过调节优化生长参数,达到快速生长层数可控石墨烯的目的。本发明方法操作简单,成本低,可重复性好,为双层石墨烯在光电器件等领域的应用和工业化发展打下了基础。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 金属 蒸气 辅助 快速 生长 石墨 制备 方法 | ||
【主权项】:
                一种金属蒸气辅助快速生长少层石墨烯的制备方法,其特征在于,所述制备方法至少包括:1)制备铜镍合金衬底;2)提供一金属片,将所述铜镍合金衬底和金属片进行清洗后置于化学气相沉积腔室内,其中,所述金属片位于所述铜镍合金衬底表面上方预设距离处;3)往所述化学气相沉积腔室内通入Ar和CH4的混合气氛,并且设置在一定压强和温度下,在所述铜镍合金衬底上生长获得少层石墨烯。
            
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                    C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
                
            C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





