[发明专利]一种金属蒸气辅助快速生长少层石墨烯的制备方法在审

专利信息
申请号: 201610345428.9 申请日: 2016-05-23
公开(公告)号: CN105779964A 公开(公告)日: 2016-07-20
发明(设计)人: 杨超;吴天如;卢光远;张学富;王浩敏;谢晓明;江绵恒 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: C23C16/26 分类号: C23C16/26;C23C16/44
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 唐棉棉
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种金属蒸气辅助快速生长少层石墨烯的制备方法,包括:首先制备铜镍合金衬底;然后提供一金属片,将所述铜镍合金衬底和金属片进行清洗后置于化学气相沉积腔室内,其中,所述金属片位于所述铜镍合金衬底表面上方预设距离处;最后往所述化学气相沉积腔室内通入Ar和CH4的混合气氛,并且设置在一定压强和温度下,在所述铜镍合金上生长获得少层石墨烯。本发明利用高温下金属片产生的大量金属蒸气,在铜镍合金衬底表面形成一层富金属层,同时利用铜镍合金快速生长高质量石墨烯的特点,通过调节优化生长参数,达到快速生长层数可控石墨烯的目的。本发明方法操作简单,成本低,可重复性好,为双层石墨烯在光电器件等领域的应用和工业化发展打下了基础。
搜索关键词: 一种 金属 蒸气 辅助 快速 生长 石墨 制备 方法
【主权项】:
一种金属蒸气辅助快速生长少层石墨烯的制备方法,其特征在于,所述制备方法至少包括:1)制备铜镍合金衬底;2)提供一金属片,将所述铜镍合金衬底和金属片进行清洗后置于化学气相沉积腔室内,其中,所述金属片位于所述铜镍合金衬底表面上方预设距离处;3)往所述化学气相沉积腔室内通入Ar和CH4的混合气氛,并且设置在一定压强和温度下,在所述铜镍合金衬底上生长获得少层石墨烯。
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