[发明专利]一种基坑降水与污染场地整治耦合的清洁基坑降水系统

摘要

本发明涉及一种基坑降水与污染场地整治耦合的清洁基坑降水系统，用于实现控制范围场地内的基坑降水与污染场地修复，所述的控制范围场地从上到下包括第一隔水层(1601)、含水层(17)和第二隔水层(1602)，所述的基坑降水系统包括活性渗滤沟(5)、基坑帷幕(2)、抽水井和观测井(4)等设备构件；通过基坑降水的大规模抽排水可以有效的实现对控制范围场地内污染物的清洁作用。与现有技术相比，本发明系统性强，高效地将基坑降水和场地修复中的活性渗滤墙技术耦合为一体，可达到对修复工程场地的环境质量进行长期监测与维护，也可对场地的二次污染进行再修复，可高效地降低工程的总造价，缩短工程的总工期等。

主权项

一种基坑降水与污染场地整治耦合的清洁基坑降水系统，用于实现控制范围场地内的基坑降水与污染场地修复，所述的控制范围场地从上到下包括第一隔水层(1601)、含水层(17)和第二隔水层(1602)，其特征在于，所述的基坑降水系统包括：活性渗滤沟(5)：设置在控制范围场地的边缘，并用于净化进入控制范围场地内的污染水体，所述的活性渗滤沟(5)底部延伸至第二隔水层(1602)内，在活性渗滤沟(5)内从底部到顶部依次设置活性渗滤墙、黏土层(12)和填充条块层(15)，所述的活性渗滤墙的顶部伸入第一隔水层(1601)内；基坑帷幕(2)：设置在控制范围场地内，其底部伸入所述的控制范围场地的含水层(17)内并高于含水层(17)底部；抽水井：包括疏干井(1)和降压井(3)两种，其中，疏干井(1)设置在基坑帷幕(2)内，其深度与基坑帷幕(2)深度一致；降压井(3)设置在基坑帷幕(2)与活性渗滤沟(5)之间，其底部抵达含水层(17)底部，所述的抽水井在接触含水层(17)的位置还设有活性过滤墙；观测井(4)：设置在控制范围场地内外，用于监测控制范围场地内的含水层(17)的水体污染情况，所述的观测井(4)的底部抵达含水层(17)底部；所述的抽水井还与外部抽水组件连接，所述的活性渗滤墙分为两种，包括设置在活性渗滤沟(5)处的第一活性渗滤墙(1101)和设置在抽水井处的第二活性渗滤墙(1102)。